1. 国际硅片清洗机主流制造商有哪些主要想知道欧美、日韩台地区的
我国光伏设备企业已全面具备太阳能电池制造整线装备能力，2010年时部分产品如扩散炉、 等离子刻蚀机等开始少量出口，可提供10种太阳能电池大生产线设备中的8种，其中有6种(扩散炉、等离子刻蚀机、清洗/制绒机、石英管清洗机、低温烘干炉)已在国内生产线占据主导地位，2种(管式PECVD、快速烧结炉)和进口设备并存但份额在逐步增大，3种(全自动丝网印刷机、自动分捡机、平板式PECVD)则完全依赖进口；国内只有上海浸泰环保掌握硅片切片后的清洗，制绒清洗技术。
国际商：smart、Sematech、ACM
2. 当前世界上最主要的几家做太阳能pecvd设备的厂家
德国roth rau板式间接法
德国centrotherm 低频管式直接法和高频管式直接法
荷兰 otb 间接法
岛津 日本 板式
国产的：四十八所、七星啦、NMC啦等等
3. Micron Technology是什么产家
Micro LED凭借出色的性能表现和灵活的应用，迎来广阔的发展前景，巨头企业纷纷抢进和布局，由此加快促进Micro LED显示技术的应用落地。据TrendForce集邦咨询预估，Micro/Mini LED产值到2024年将达39亿美金。
此前小编已经对Micro LED在AR智能眼镜上的应用进行过盘点，这次主要是汇总今年各大厂商的最新动态和研发成果，以供读者参考。
Micro LED布局
三安与TCL华星成立Micro LED联合实验室
3月初，三安半导体与TCL华星宣共同成立联合实验室，以布局Micro LED显示技术开发。该实验室的研发资本金为3亿元，将开发Micro LED显示器端到端技术过程中所形成的与自有材料、工艺、设备、产线方案相关的技术。
康佳积极布局Micro LED，导入关键设备
3月份，德国的沉积设备制造商爱思强（Aixtron SE）宣布，康佳集团已订购了多个AIX G5+C和AIX 2800G4-TM MOCVD系统，以建立自己的镓批量生产基于氮化物（GaN）和基于砷化磷（AsP）的Mini/Micro LED。
除了MOCVD外，康佳还导入了更多Micro LED生产设备。11月份，英国厂商Micro Crystal Transfer Group及其专业的LED和半导体技术团队采用了日本半导体设备供应商Samco的ICP刻蚀系统和PECVD系统，用于康佳的Micro LED生产。
华灿光电募资12亿投向Mini/Micro LED芯片
4月初，华灿光电宣布拟定增募资15亿元投建Mini/Micro LED、GaN功率器件项目，其中12亿元投向Mini/Micro LED项目，主要用于生产Mini/Micro LED外延片、Mini/Micro LED芯片等。10月19日，华灿宣布定增项目募资完毕。
另外，12月1日，华灿光电与Semicon Light签署倒装芯片专利技术授权协议。该技术被认为是Mini/Micro LED等新型显示器的关键技术。据报道，华灿正在计划为LG电子提供用于新型Micro LED显示产品的Micro LED芯片。
首尔半导体已进入Micro LED商业化量产阶段
5月份，首尔半导体称其在Micro LED领域已经进入了商业化量产的阶段。通过旗下子公司Seoul Viosys已经能够批量生产全光色的RGB LED芯片。同时，首尔半导体已经成功地开发了巨量转移技术，能够将Micro LED成功的移转到PCB或是玻璃背板的任何背板上。
苹果加快推进Micro LED技术商用化
6月份，苹果宣布计划投资约3.34亿美元在台湾地区竹科龙潭园区建设新厂，用于生产Mini/Micro LED显示面板。12月最新消息显示，苹果计划继续携手晶电龙潭厂朝Micro LED技术发展，近期龙潭厂不断移入设备以及开设新产线，以提前部署后年应用。
錼创计划筹建立第二条Micro LED生产线
8月份，台湾地区Micro LED开发商錼创宣布计划筹集5000万美元建立其第二条Micro LED生产线。錼创希望在2021年第2季度或第3季度开始在新生产线中进行批量生产。这条新生产线将使该公司的Micro LED生产能力扩大2到3倍。
欧司朗携手京瓷开发Micro LED驱动技术
8月12日，欧司朗和日本显示器制造商京瓷在Micro LED显示器领域共同设计了一种电流与PWM混合驱动的新技术。两家公司表示，可以使用这种新的驱动方案来避免使用较低的像素电流通过Micro LED芯片，从而减少低灰度水平下的亮度偏差和颜色偏移。
4. PECVD是什么
PECVD就是化学气相沉积法，是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素内的一种或容几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域，PCEVD是等离子体增强化学气相沉积英文的各个词字母的首个字母。
5. PECVD镀膜设备多少钱
你这里所说的“不同”，是不是指管式和板式的差别呢？管式PECVD的工艺原理是通过低回压气氛的射频放电产生等离答子体，辅助以加热系统，从而在wafer表面沉积镀膜；而板式PECVD则是通过石英管保护的铜管，将微波导入工艺腔室，从而加热气体等离子，最后实现在wafer表面沉积薄膜的目的。
6. PECVD原理是ct厂家的机器
找CT厂家，商先创
7. pecvd有哪几种设备
按等离子体激发电源区分，有射频电源（RF-PECVD）、甚高频电源（VHF-PECVD）、电子回旋共振（ECR-PECVD）、线性微波（LM-PECVD）等。按电源偶合结构区分，有电容偶合（传统PECVD）、电感偶合（ICP-PECVD）、表面波偶合（ECR-PECVD）、同轴天线偶合（LM-PECVD）等。按样品安放结构区分，有管式PECVD和平板式PECVD等。
8. 太阳能PECVD设备供应商，设备型号、价格，帮忙找一些世界上比较强的公司，如果可以写一些优缺点
国内主要两家厂，北京创世威纳，沈阳北科仪，沈阳还有一家是从北科仪分回出来的，名字忘了，你网答上查查电话，自己打过去问吧。如果要买他们态度应该是很好的。
产品各有千秋，沈阳的好些。
国外的质量更稳定，但是我就不了解了，而且价格也是十倍以上。水太深了。
9. 国外icp氮化镓刻蚀机厂商都有那几家
太阳电池制作工艺太阳能电池工艺简介及厂房建设总结 我公司从02年开始，先后承接过目前国内太阳能电池行业主流公司的一系列项目（从硅片制造到组件生产），通过完成这些项目的设计、施工和二次配，我公司无疑已成为业内承接太阳能电池生产厂房的最专业公司。我自己还见证了以上某项目从破土动工到正式投产，甚至停产改造的所有过程，也曾去过兄弟太阳能项目，通过现场的亲历和对这些公司施工图的研读，对太阳能电池的生产工艺及厂房及建设略知一二，愿在此与大家探讨。 一、工艺简介 在上一次《太阳能电池的一些资讯》中，对于生产原理，我已经做过叙述，太阳能电池生产工艺一般分为：扩散前清洗、扩散、扩散后清洗、刻蚀、PECVD，丝网印刷，烧结，分类检测和封装。 扩散前清洗的目的在于制绒，就是把相对光滑的原材料硅片的表面通过强酸和强碱腐蚀，使其凸凹不平，变得粗糙，形成漫反射，减少直射到硅片表面的太阳能的损失。相关设备有无锡瑞宝，德国RENA，深圳捷佳创，这些设备中最好的是RENA，因为他不光卖设备，还卖制绒工艺的专利。所使用的介质有HF，HCL，HNO3，NaOH，Na2SiO3和乙醇等。动力源有自来水，纯水，压缩空气，氮气，工艺冷却水，废水，热排风和酸排风。 扩散的目的在于形成PN结。硅片含硼，是P型结物质，需要往里面掺杂磷，使电子发生移动，形成PN结空穴。所使用的介质有POCL3，N2，O2。动力源有压缩空气，氮气，工艺冷却水，热排风和有机排风。使用的设备是高温扩散炉，厂商有SVCS，TEMPRESS，长沙48所等。该道工艺有洁净要求，需要在洁净室内运行。因为扩散炉内的石英管需要清洗，所以需要增加一种石英管清洗机。 扩散后清洗的目的在于洗去扩散时形成的磷硅玻璃，即SiO2和 P2O5的混合物，所以扩散后清洗机又叫做去磷硅玻璃清洗机。动力源有氮气，压缩空气，纯水，HF，热排风，酸排风，废水等。设备有深圳捷佳创。 刻蚀的目的在于把硅片的边缘PN结断开，防止短路。目前国内所使用的设备几乎都是长沙48所的。动力源有CF4，N2，NH3，热排风，有机排风。 PECVD的目的在于镀氮化硅薄膜，增加折射率，同时掺杂H元素，使缺陷减少，还可以保护硅片。所用设备有德国的ROTH&RAW平板式PECVD设备，还有CENTROTHERMO的管式PECVD设备。动力源有SiH4，NH3，氮气，压缩空气，工艺冷却水，热排风，硅烷排风等。 丝网印刷的目的在于印刷导电电极。先印背面，再印正面。目前国内大多数厂家使用设备是意大利的BACCINI印刷线。动力源有真空，压缩空气，热排风，有机排风等。 烧结的目的是把电极烧结在PN结上。高温烧结可以使电极穿透氮化硅膜，形成合金。所用设备有美国DESPACH等。动力源有压缩空气，工艺冷却水，热排风，有机排风等。 分类检测的目的在于把电池片按照效率进行分类。目前国内大多数厂家使用设备是意大利的BACCINI检测仪。动力源有真空，压缩空气。 最后一道工艺就是热塑包装。 二、厂房建设经验总结 一条年产量25MW的生产线，设备占地至少需要1100平方米，而国内厂商一般很少有只计划一条线的公司，所以太阳能电池生产车间净面积都在2000平方米以上。按照16小时甚至24小时生产来计算，工艺人员不下于百人，所以相应的办公室，更衣间，食堂，宿舍，卫生间等设施都不能太小。外线动力站（制冷，供热，纯水，空压，真空，空调，工艺冷却水，消防，变配电，自控，通讯等）房总面积不小于2000平方米。厂房和动力站房有钢筋混凝土框架结构，多层建筑的，也有钢结构加金属复合板单层建筑的，但布置工艺和动力设备的楼层，因管线众多，层高都较大，至少是7米。 以下经验总结均以50MW生产线为例。 电源是整个工厂的首要条件，仅工艺和动力设备用电功率就在1800KW左右，必须有可靠的电能供应。PECVD设备，制冷机，空压机，空调风机和循环水泵是用电功率较大的设备。 工艺纯水的用量在15吨/小时左右，水质标准都要达到中国电子级水的技术指标GB/T11446.1-1997中EW-1级。工艺冷却水用量也在15吨/小时左右，水质中微粒粒径不宜大于10微米，供水温度宜在15-20℃，供水压力5巴左右，应有可靠的温度，供水压力控制，最好采用变频泵。 压缩空气用量在400NM3/H左右，如果空气品质要求较高，如需要达到压缩空气质量等级的1级甚至更高要求，建议使用无油空压机。如果露点温度要求苛刻，干燥机建议使用组合式。真空排气量在300M3/H左右，水环式真空泵虽然便宜，但是效率下降的也快，不推荐使用。氮气和氧气如果靠近大的气体供应站，一般采用液体储罐供应的方式，初投资低，氮气储罐20立方米左右，氧气10立方米足够。特殊气体如硅烷等，考虑安全因素，单独设置一个特气间还是很有必要的。 空调系统的空气处理方式则视具体土建情况而言，可以采取组合式空气处理机组集中处理，也可以采用干盘管进行分散处理。生产车间出扩散区外，温湿度均只要满足人体舒适性即可，建议冬夏能有一定变化，这样既可节能，又让人能适应室内外温度变化，不易感冒。扩散区由于对洁净度要求较高，需要设计独立的空气处理系统，主要关注的是洁净度，该区散热量也较大。酸排气量不小于10000M3/H，一般采用湿式洗涤、中和的处理方式。有机排气量也不小于10000M3/H，一般采用干式吸附法处理。热排风量也不小于13000M3/H，因为只是普通排气，可以不用处理，直接排放即可。相对而言，硅烷处理要谨慎，否则容易起火。 整个施工试车过程中，特别要注意的是水，气通入设备之前除做好强度严密性试验，确保无渗漏外；务必保证清洗、吹扫试验要干净彻底，否则，设备一旦被污染，再次清洗不但代价昂贵，甚至会造成重大损失。二次配管时，某些设备的特殊需要，则根据业主的要求和初投资而定，如扩散炉具有较强腐蚀性的高温酸性排风；供强酸、强碱、特气的多层管路，PECVD、刻蚀机的隔声泵房等。 厂房设计和施工公司的选择，是考验投资方智慧和眼光的大事，切不可因一时便宜而选择之。没有选择好专业的公司，将会付出成沉重的代价。 工厂建成以后，最重要的就是运行维护。太阳能电池厂房动力保障是一个复杂的系统，需要至少2-4名理论功底扎实，动手能力强、富有高度责任感的工程师核心队伍，经常对各动力系统进行巡察，及时分析和解决出现的问题，甚至适时提出改造方案；否则不能及时发现隐患，很可能等问题出现时导致停产。